特許

J-GLOBAL ID：200903042301055609

回折効率が空間的に可変なフェーズマスク

発明者： エーベッツ ピーター ,  ポワリエ ミッシェル ,  シュー ジーホン ,  カポラ ナディア
出願人/特許権者： アンスティテュ ナシィオナル ドオプティック ,  ラジリス インク
代理人 (1件)： 小杉 佳男 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-535190
公開番号（公開出願番号）：特表2001-511906
出願日： 1998年02月11日
公開日（公表日）： 2001年08月14日
要約：

【要約】[目的]透過する平行光線を変調するためのフェーズマスク(15)で、平行光線が回折させられて自己干渉によって屈折率プロファイルを感光性光学媒体に光誘起するフェーズマスクを改善する。[構成]フェーズマスクは、複数の平行格子コルゲーションが形成された外面を有し、格子コルゲーション(19)が外面を横切る方向に一様でないレリーフ深さを有する基板(17)を具備し、レリーフ深さが格子コルゲーション(19)の中心で最大で、コルゲーション格子の両端部のゼロに向けて連続的に減少することによって、感光性光学媒体にアポダイズ様屈折率プロファイルを光誘起させ、レリーフ深さが基板(17)上に被覆された可変厚さの可変薄膜層(21)によって決定される。

請求項（抜粋）：

透過する平行光線を変調するためのフェーズマスクで、該平行光線が回折させられて自己干渉によって屈折率プロファイルを感光性光学媒体に光誘起するフェーズマスク(15)において: 複数の平行格子コルゲーション(19)が形成された外面を有し、該格子コルゲーション(19)が該外面を横切る方向に一様でないレリーフ深さを有して該感光性光学媒体に非一様性屈折率プロファイルを光誘起させ、該一様でないレリーフ深さが基板上に被覆された可変厚さの可変薄膜層(21)によって決定される基板(17)を具備したこと;を特徴とするフェーズマスク(15)。

IPC (3件)：

G02B 5/18 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 501

FI (3件)：

G02B 5/18 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/20 501