特許
J-GLOBAL ID：200903042306403079
プラズマ発生方法及びプラズマ発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-150625
公開番号（公開出願番号）：特開平9-330913
出願日： 1996年06月12日
公開日（公表日）： 1997年12月22日
要約：
【要約】【課題】 ウエハーの大口径化に伴い、プラズマ処理反応室が大きくなり、結果としてプラズマ処理における反応生成物ラジカルのウエハー面内の不均一性が発生する。【解決手段】 本発明のプラズマ発生方法は、プラズマ処理中に任意の箇所の任意のラジカルをラジカル導入制御器18により計測し、不足しているラジカル成分を追加制御しながら不要な解離を防ぎプラズマを発生することにより、被エッチング基板11面内でラジカルの過不足をなくし、プラズマを均一に保つことができる。
請求項（抜粋）：
高周波放電を用いたプラズマ発生方法であって、被処理基板面内の複数箇所のラジカルを測定する工程と、前記測定の結果に基づいてラジカルガスの供給を局所的に制御する工程とを有するプラズマ発生方法。
IPC (5件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, C30B 35/00
, H01L 21/205
H01L 21/302 A
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, C30B 35/00
, H01L 21/205
