特許
J-GLOBAL ID：200903042312138344
投影露光装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 正年 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-170377
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017719
出願日： 1994年06月30日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：
【要約】【目的】 焦点補正による球面収差等の新たな収差の発生を最小限に抑えながら、温度変動や大気圧変動等の使用環境変化による焦点の移動を補正することが可能な投影露光装置を提供すること。【構成】 投影光学系を介してマスクパターンを感光基板上へ露光する投影露光装置であって、屈折型または反射型の光学部材と、回折型の補正光学部材とを有する投影光学系を備え、前記補正光学部材は、前記光学部材の使用環境変化に伴う焦点位置の移動方向とは逆向きの使用環境変化に伴う焦点位置の移動方向を持つことを特徴とするもの。
請求項（抜粋）：
光源手段からの光束をマスクに照射することにより、投影光学系を介して前記マスクのパターンを感光基板上へ露光する投影露光装置において、前記投影光学系は、屈折型または反射型の光学部材と、回折型の補正光学部材とを有し、前記補正光学部材は、前記光学部材の使用環境変化に伴う焦点位置の移動方向とは逆向きの使用環境変化に伴う焦点位置の移動方向を持つことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
前のページに戻る
