特許
J-GLOBAL ID:200903042313213641

珪酸リチウムの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 赤塚 賢次 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-121838
公開番号(公開出願番号):特開2000-313615
出願日: 1999年04月28日
公開日(公表日): 2000年11月14日
要約:
【要約】【課題】 シリカゲルと水酸化リチウムとの含水混合物の調製を速やかに行えると共に、珪酸リチウムの低モル品の生成量が少なく、所望の珪酸リチウムを高収率で得られる、低コストな珪酸リチウムの製造方法を提供すること。【解決手段】 水にシリカゲルを分散させてシリカゲル分散液を調製し、該シリカゲル分散液に水酸化リチウムを添加して液中のSiO2 とLiO2 のモル比SiO2 /LiO2 が実質的に一定に保たれた含水混合液を調製し、該含水混合液を珪酸リチウムのゲル化温度以下の温度に保って該含水混合液中に分散しているシリカゲルを解膠させて半透明状スラリーとし、該半透明状スラリーを常圧下で前記ゲル化温度より高い温度に保ち、さらに放冷して珪酸リチウムを製造する。
請求項(抜粋):
水にシリカゲルを分散させてシリカゲル分散液を調製し、該シリカゲル分散液に水酸化リチウムを添加して液中のSiO2 とLiO2 のモル比SiO2 /LiO2 が実質的に一定に保たれた含水混合液を調製し、該含水混合液を珪酸リチウムのゲル化温度以下の温度に保って該含水混合液中に分散しているシリカゲルを解膠させて半透明状スラリーとし、該半透明状スラリーを常圧下で前記ゲル化温度より高い温度に保ち、さらに放冷することを特徴とする珪酸リチウムの製造方法。
Fターム (12件):
4G073BA03 ,  4G073BA63 ,  4G073BA75 ,  4G073BD07 ,  4G073CB03 ,  4G073FB04 ,  4G073FB11 ,  4G073FC25 ,  4G073FC30 ,  4G073FD01 ,  4G073FD04 ,  4G073UA20
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 特開昭59-069417
  • 特公昭45-004184
  • 特公昭38-020484
審査官引用 (3件)
  • 特開昭59-069417
  • 特公昭45-004184
  • 特公昭38-020484

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