プラズマ滅菌処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：三好秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-055886
公開番号（公開出願番号）：特開2003-250868
出願日： 2002年03月01日
公開日（公表日）： 2003年09月09日
要約：

【要約】【課題】プラズマによる表面の変色、損傷をなくし、いずれの種類の被滅菌物であっても滅菌処理を可能とする。【解決手段】酸素を含む混合ガスを滅菌室1内へ供給するガス供給管7内において第1のプラズマ発生装置3によってプラズマ化する一方、滅菌室1内において第2のプラズマ発生装置5によってプラズマ化し、それらプラズマを滅菌室1内の磁石59によって閉じ込めることで、被滅菌物65に損傷等の悪影響を与えないようにする。一方、磁石59によって閉じ込めたプラズマにより高濃度プラズマ領域を作り、菌を不活化する酸素原子を多量に生成する。

請求項（抜粋）：

酸素ガス又は酸素を含む混合ガスが流れるガス供給管と、ガス供給管を流れるガスをプラズマ化する第1のプラズマ発生装置と、ガス供給管と接続し内部が真空となる滅菌室と、滅菌室内に送り込まれるガスをプラズマ化する第2のプラズマ発生装置と、滅菌室内にS極、N極の順に交互に配置され発生したプラズマを閉じ込める磁石とを有し、前記第1のプラズマ発生装置は、前記ガス供給管が貫通し、そのガス供給管に対して横切るようマイクロ波が流れる導波管で構成されていることを特徴とするプラズマ滅菌処理装置。

IPC (3件)：

A61L 2/14 , B01J 19/08 , H05H 1/46

FI (3件)：

A61L 2/14 , B01J 19/08 E , H05H 1/46 B

Fターム (17件)：

4C058AA01 , 4C058BB06 , 4C058EE26 , 4C058KK06 , 4G075AA22 , 4G075AA37 , 4G075AA62 , 4G075BA10 , 4G075CA26 , 4G075CA42 , 4G075CA51 , 4G075CA63 , 4G075DA02 , 4G075EB01 , 4G075EB44 , 4G075FB02 , 4G075FB06

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭56-148354
特開昭61-220300

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