特許

J-GLOBAL ID：200903042319626220

フロッピーディスクおよびフロッピーディスクの製造方法

発明者： 西川 正一
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 米澤 明 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319963
公開番号（公開出願番号）：特開2001-143234
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 真空成膜法によって柱状構造、結晶配向性が優れた高密度、大容量フロッピーディスクを製造する。【解決手段】 可撓性支持体の少なくとも一方に下地層、磁性膜、保護膜、潤滑膜を積層したフロッピーディスクにおいて、真空成膜法により作製する下地層および磁性膜中のアルゴン濃度が膜厚方向に対して0.1ppm〜1000ppmの範囲で変化しているフロッピーディスク。

請求項（抜粋）：

可撓性支持体の少なくとも一方に下地層、磁性膜、保護膜、潤滑膜を積層したフロッピーディスクにおいて、真空成膜法により作製する下地層および磁性膜中のアルゴン濃度が膜厚方向に対して0.1ppm〜1000ppmの範囲で変化していることを特徴とするフロッピーディスク。

IPC (3件)：

G11B 5/65 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/851

FI (3件)：

G11B 5/65 ,  G11B 5/738 ,  G11B 5/851

Fターム (15件)：

5D006BB01 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CA05 ,  5D006DA02 ,  5D006EA03 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112BB05 ,  5D112BD04 ,  5D112FA01 ,  5D112FA04 ,  5D112FB20 ,  5D112GA23