特許

J-GLOBAL ID：200903042342784860

位置検出用マーク、マーク検出方法及びその装置並びに露光装置

発明者： 白石 直正 ,  馬込 伸貴
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-320496
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189443
出願日： 1997年11月06日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】 マーク検出時間の短縮と、高精度な位置検出を可能にする位置検出用マークを提供する。【解決手段】基板上に形成される位置検出用マークMPは、その中心部近傍に配置されたY軸方向に周期性を有する第1パターンM1と、第1パターンM1のX軸方向の両側近傍にそれぞれ配置されたX軸方向に周期性を有する第2パターンM2a,M2bとを有する。このため、第1パターンM1の中心に検出光学系の検出中心AXa、すなわち検出光学系の収差最小位置で検出するとともに、第2パターンM2a,M2bをその収差最小位置に対称な2箇所で位置検出して平均化することにより、検出光学系の残存収差の影響を殆ど受けず、高精度にその位置検出用マークMPのX軸方向とY軸方向の位置を検出することが可能になる。

請求項（抜粋）：

基板上に形成され、所定の第1軸方向とこれに直交する第2軸方向の前記基板の位置を検出するための位置検出用マークであって、その中心部近傍に配置された前記第1軸方向に周期性を有する第1パターンと;前記第1パターンの前記第2軸方向の両側近傍にそれぞれ配置された第2軸方向に周期性を有する第2パターンとを有する位置検出用マーク。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 522 B ,  G03F 1/08 N ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 R