特許

J-GLOBAL ID：200903042348012282

光吸収パターン膜被覆物品の製造方法および光吸収パターン膜被覆物品

発明者： 河津 光宏
出願人/特許権者： 日本板硝子株式会社
代理人 (1件)： 大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-320332
公開番号（公開出願番号）：特開2001-192236
出願日： 2000年10月20日
公開日（公表日）： 2001年07月17日
要約：

【要約】【課題】 可視光反射率を低く保ちながら、種々の透過光分光分布を有する光吸収膜被覆ガラス物品を提供する。【解決手段】 酸化珪素原料、酸化チタン微粒子を含む酸化チタン原料、および金微粒子原料を含有する光吸収膜被覆液を基材表面に塗布し、フォトマスクを前記塗布膜の上に配置して、前記塗布膜に紫外光を照射し、その後に前記塗布膜を加熱する、前記フォトマスクのパターンに対応する透過光分光分布を有する光吸収パターン膜被覆物品の製造方法である。

請求項（抜粋）：

酸化珪素原料、酸化チタン微粒子を含む酸化チタン原料、および金微粒子原料を含有する光吸収膜被覆液を基材表面に塗布し、フォトマスクを前記塗布膜の上に配置して、前記塗布膜に紫外光を照射し、その後に前記塗布膜を加熱する、前記フォトマスクのパターンに対応する透過光分光分布を有する光吸収パターン膜被覆物品の製造方法。

IPC (3件)：

C03C 17/25 ,  B32B 9/00 ,  G02B 1/11

FI (3件)：

C03C 17/25 A ,  B32B 9/00 A ,  G02B 1/10 A