特許
J-GLOBAL ID：200903042385113374
低級酸化ケイ素粉末及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-342813
公開番号（公開出願番号）：特開2001-158613
出願日： 1999年12月02日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：
【要約】【課題】微粉末にして耐酸化性に優れ、蒸発の容易な活性度の高い低級酸化ケイ素粉末を提供することである。また、そのような耐酸化性と活性度の高い低級酸化ケイ素粉末を容易に製造すること。【解決手段】比表面積が10m<SP>2</SP>/g以上で、アスペクト比2以上の針状粒子の含有率が30%以上であり、しかもSiOx(1.00<x≦1.40)組成を有するものであることを特徴とする低級酸化ケイ素粉末。酸化性指数が10%以下で、活性度が90%以上であり、しかもSiOx(1.00<x≦1.40)組成を有するものであることを特徴とする低級酸化ケイ素粉末。低級酸化ケイ素粉末の製造方法。
請求項（抜粋）：
比表面積が10m<SP>2</SP>/g以上で、アスペクト比2以上の針状粒子の含有率が30%以上であり、しかもSiOx(1.00<x≦1.40)組成を有するものであることを特徴とする低級酸化ケイ素粉末。
Fターム (18件)：
4G072AA24
, 4G072AA50
, 4G072BB05
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH01
, 4G072HH14
, 4G072HH36
, 4G072JJ02
, 4G072LL03
, 4G072MM01
, 4G072RR13
, 4G072RR21
, 4G072RR22
, 4G072RR23
, 4G072TT05
, 4G072TT30
, 4G072UU30
