特許
J-GLOBAL ID:200903042397092003
ジチオレート系金属錯体の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-001318
公開番号(公開出願番号):特開2005-232158
出願日: 2005年01月06日
公開日(公表日): 2005年09月02日
要約:
【課題】 ジチオレート系金属錯体化合物の収率よい簡便な製造方法の提供。【解決手段】下記一般式(1)(R1及びR2;置換されていても良い脂肪族炭化水素基又はアリール基をここで、R1及びR2が、一体となって環を形成していても良い。X;酸素原子又は硫黄原子)で表される化合物と金属化合物とを反応させた後、酸素存在雰囲気において、無機酸化物、複合酸化物及び活性炭からなる群より選ばれる多孔性無機化合物及び/又は酸の存在下で、下記一般式(2)(R1及びR2;前記と同義であり、R1'及びR2';置換されていても良い脂肪族炭化水素基又はアリール基を示し、ここで、R1'及びR2'が一体となって環を形成していても良い。M;金属原子)で表されるジチオレート系金属錯体を得ることを特徴とするジチオレート系金属錯体の製造方法。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
下記一般式(1)
IPC (4件):
C07C321/18
, C09B57/10
, C09K3/00
, G02B5/22
FI (4件):
C07C321/18
, C09B57/10
, C09K3/00 105
, G02B5/22
Fターム (15件):
2H048CA04
, 2H048CA12
, 2H048CA19
, 4H006AA02
, 4H006AC63
, 4H006BE30
, 4H006TA04
, 4H050AA01
, 4H050AA02
, 4H050AA03
, 4H050AB92
, 4H050AB99
, 4H050BE30
, 4H050WB15
, 4H050WB21
引用特許:
出願人引用 (1件)
審査官引用 (9件)
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特開平3-039947
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特開平1-210389
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特開平1-183653
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引用文献:
審査官引用 (4件)
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Journal of Materials Chemistry, 2001, 11(9), p.2131-2141
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Xibei Daxue Xuebao, Ziran Kexueban, 1999, 29(6), p.539-542
-
Journal of Materials Chemistry, 1994, 4(12), p.1861-1866
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Proceedings of SPIE-The International Society for Optical Engineering, 2003, 5213(Liquid Crystals VII), p.201-212
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