特許

J-GLOBAL ID：200903042408444543

グリオキサールの製造方法とその触媒

発明者： 岩根 恵子 ,  山崎 正人 ,  高松 孝二 ,  井上 初男 ,  大川 尚
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 苗村 新一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-147646
公開番号（公開出願番号）：特開2001-321669
出願日： 2000年05月19日
公開日（公表日）： 2001年11月20日
要約：

【要約】【課題】 転化率・選択率・空時収率共に高く、不純物の少ない新規なグリオキザールの製造方法、及びこの方法に使用される新規の触媒を提供することにある。【手段】 少なくとも1層の銀触媒層、少なくとも1層の銀とパラジウムからなる銀系触媒層及び少なくとも1層の銅触媒層とからなる多層触媒層にエチレングリコールと分子状酸素を400〜700°Cの反応温度において銅触媒層、銀系触媒層、銀触媒層の順で流通させ酸化脱水素反応を行なう。

請求項（抜粋）：

少なくとも1層の銀触媒層、少なくとも1層の銀とパラジウムからなる銀系触媒層及び少なくとも1層の銅触媒層とを順次多層に構成してなるグリオキサールの製造用触媒。

IPC (6件)：

B01J 23/72 ,  B01J 23/50 ,  B01J 35/02 ,  C07C 45/38 ,  C07C 47/127 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

B01J 23/72 Z ,  B01J 23/50 Z ,  B01J 35/02 A ,  C07C 45/38 ,  C07C 47/127 ,  C07B 61/00 300

Fターム (21件)：

4G069AA08 ,  4G069BC31A ,  4G069BC31B ,  4G069BC32A ,  4G069BC32B ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069CB07 ,  4G069CB19 ,  4G069DA06 ,  4G069EA07 ,  4H006AA02 ,  4H006AC45 ,  4H006BA05 ,  4H006BA25 ,  4H006BC10 ,  4H006BC32 ,  4H006BC34 ,  4H006BE30 ,  4H039CA62 ,  4H039CC20