特許

J-GLOBAL ID：200903042412006666

処理装置

発明者： 風間 晃一 ,  北村 昌幸
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン山梨株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-317428
公開番号（公開出願番号）：特開平7-147272
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月06日
要約：

【要約】【目的】 冷媒溜に供給した冷媒によって従来よりも効率の良い冷却が可能な処理装置を提供する。【構成】 処理室内に設置されたサセプタの内部に形成された冷媒溜に冷媒源からの冷媒を供給してサセプタの載置面に吸着保持した被処理体を冷却した状態で処理する処理装置において、上記冷媒溜に冷媒源からの冷媒を供給する供給管の出口を上向きに形成し、前記冷媒溜の天井面に向かって冷媒を直接吹きつける構成とする。

請求項（抜粋）：

処理室内に設置されたサセプタの内部に形成された冷媒溜に冷媒源からの冷媒を供給してサセプタの載置面に吸着保持した被処理体を冷却した状態で処理する処理装置において、上記冷媒溜に冷媒源からの冷媒を供給する供給管の出口を上向きに形成し、前記冷媒溜の天井面に向かって冷媒を直接吹きつける構成としたことを特徴とする処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/68

FI (2件)：

H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 H