特許
J-GLOBAL ID：200903042424341479
ダイヤモンドウエハ-とその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川瀬 茂樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-099812
公開番号（公開出願番号）：特開平7-326553
出願日： 1995年03月31日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：
【要約】【目的】 表面弾性波素子、半導体デバイス、耐磨ディスクなどに利用するための、基体の上にダイヤモンドを被覆した平滑なダイヤモンドウエハ-を作製すること。ダイヤモンドウエハを用いて損失の小さい表面弾性波素子を作製する事が目的である。【構成】 基体の上に,気相合成法により(100)配向したダイヤモンド膜を形成する。形成後の反りが2μm〜150μmになるようにする。これを研磨して、Rmax500Å以下、Ra200Å以下の平滑な面とする。表面弾性波素子とする場合は、表面弾性波の波長の5倍、または1/5以下の平均粒径をもつダイヤモンド膜を製造する。これにより伝搬損失を少なくすることができる。
請求項（抜粋）：
基板と、気相合成法により基板上にコ-テイングされた(100)配向したダイヤモンド膜とよりなり、ダイヤモンド膜は気相合成法により形成された後、研磨によりRmax500Å、Ra200Å以下の面粗度に仕上げてあることを特徴とするダイヤモンドウエハ-。
IPC (4件)：
H01L 21/02
, C30B 29/04
, H01L 21/304 321
, H03H 3/08
