特許
J-GLOBAL ID：200903042428855558
位相シフトレチクルの修正方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
北野 好人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-233735
公開番号（公開出願番号）：特開平7-092658
出願日： 1993年09月20日
公開日（公表日）： 1995年04月07日
要約：
【要約】【目的】 位相シフトレチクルの不良を生じさせず歩留まりの低下を防ぐ位相シフトレチクルの修正方法を提供する。【構成】 位相シフトレチクル10の製造時に形成されるシフタ残渣13にカーボン膜(エネルギ吸収体)15を堆積する工程と、カーボン膜15にレーザビーム(レーザ光線)16を照射して、カーボン膜15と共にシフタ残渣13を除去する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
位相シフトレチクルの製造時に形成されるシフタ残渣にエネルギ吸収体を堆積する工程と、前記エネルギ吸収体にレーザ光線を照射して、前記エネルギ吸収体と共に前記シフタ残渣を除去する工程とを有することを特徴とする位相シフトレチクルの修正方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
H01L 21/30 502 W
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
