特許

J-GLOBAL ID：200903042429036747

新規なフタル酸誘導体金属塩を含有する光遮断性及び光感応性のあるプレート

発明者： 佐竹 寿巳 ,  永井 共章 ,  福井 浩 ,  横山 美幸 ,  関根 昭夫
出願人/特許権者： 日本製紙株式会社
代理人 (1件)： 藤野 清也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-134769
公開番号（公開出願番号）：特開平7-324109
出願日： 1990年09月27日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【目的】 高分子透明体形成モノマーにフタル酸水素アクリロイルオキシエチルの銅塩及びネオジウム塩などのフタル酸誘導体の金属塩を加えて重合し、次いで公知方法でフイルム又はシート化することによって得られる光遮断性及び光感応性のあるプレート。さらに、適宜のチオアミド誘導体又はチオ尿素誘導体あるいはホトクロミック材料を添加することによって使用する金属塩の吸光特性に応じた遮光性及び光感応性とすることができる。【効果】 吸光特性に応じた遮光性及び光感応性とすることができるので、特定波長の光線を遮光したり、紫外線に感応して各種の色に変色できるので、紫外線カットフイルターや検出器、その他の工業用材料としての利用性が高い。

請求項（抜粋）：

高分子透明体形成モノマーに、次の一般式(I) で表されるフタル酸誘導体金属塩を混合し、加熱重合して得られた高分子透明体の光遮断性プレート。【化1】ただし、式中 R1 は水素または低級アルキル基を、-X- は -0- または -NH-を示す。また R2 は、低級アルキル基及び/又はハロゲン原子で置換されていてもよい-(CH2)n - 基を示す。さらに該-(CH2)n - 基の一部はフェニレン基【化2】及び/又は -CH=CH-基で置換されていてもよい。R3はフェニレン基【化3】又はシクロヘキシレン基【化4】を示す。MeはCu, Pb, Nd, Co, Fe, Ni, V, VO, W及びCeより選択された二価又は三価の金属を示す。m は2又は3の整数を、n は1〜5のいずれかの整数をそれぞれ示す。

IPC (27件)：

C08F 20/26 MMK ,  C07F 1/08 ,  C07F 5/00 ,  C07F 7/24 ,  C07F 9/00 ,  C07F 11/00 ,  C07F 15/02 ,  C07F 15/04 ,  C07F 15/06 ,  C08F 20/58 MNG ,  C08F265/00 MQM ,  C08K 5/36 ,  C08L 25/00 LDV ,  C08L 33/10 LHY ,  C08L 69/00 KKL ,  G02B 5/20 ,  G02B 5/22 ,  C07C233/20 ,  C07C333/08 ,  C07C335/08 ,  C07C335/14 ,  C07C335/16 ,  C07C335/18 ,  C07C335/20 ,  C09K 3/00 104 ,  C09K 3/00 105 ,  C09K 9/02