特許

J-GLOBAL ID：200903042431533618

有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法

発明者： 下村 達夫 ,  片岡 直明 ,  北嶋 宣光
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-223122
公開番号（公開出願番号）：特開平11-235578
出願日： 1998年08月06日
公開日（公表日）： 1999年08月31日
要約：

【要約】【課題】 還元脱ハロゲン反応において、標準電極電位が低く、かつ表面が安定な酸化膜で覆われず効率的に還元反応が行われる還元剤を添加することにより、経済的かつ効率的に脱ハロゲン化を行う方法を提供する。【解決手段】 有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に標準電極電位が-445mV以下、-2400mV以上のケイ素化合物、リン酸化合物、硫黄化合物、重金属、軽金属、およびそれらの合金のいづれかまたはその混合物を添加し、還元条件下で分解浄化することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

有機ハロゲン化合物の汚染物を浄化する方法において、該汚染物に標準電極電位が-445mV以下、-2400mV以上のケイ素化合物、リン酸化合物、硫黄化合物、重金属、軽金属、およびそれらの合金のいづれかまたはその混合物を添加し、還元条件下で分解浄化することを特徴とする有機ハロゲン化合物汚染物の浄化方法。

IPC (8件)：

B09C 1/02 ,  B09C 1/08 ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/58 ,  C02F 1/70 ZAB ,  C02F 3/00 ,  C02F 11/02 ,  C02F 11/12

FI (7件)：

B09B 3/00 304 K ,  A62D 3/00 ZAB ,  C02F 1/58 A ,  C02F 1/70 ZAB Z ,  C02F 3/00 D ,  C02F 11/02 ,  C02F 11/12 E