特許

J-GLOBAL ID：200903042443350462

基板保持装置およびこれを用いた露光装置

発明者： 原 真一 ,  丸茂 光司 ,  春見 和之
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-262496
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092728
出願日： 1996年09月11日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：

【要約】【課題】 露光中のウエハの熱歪を防ぐ。【解決手段】 ウエハチャックE1 の吸着面1aには、複数の吸着溝1bが設けられている。最外周部の吸着溝1bを真空ポンプ4に接続する配管3aは、残りの吸着溝1bを真空ポンプ4に接続する配管3bより低い配管抵抗を有する。最外周部の吸着溝1bをより強く真空引きすることでウエハW1 全面の吸着力を均一にする。これによって、ウエハW1 が均一に冷却される。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持面の外周部に配設された第1の凹所とその内側に配設された第2の凹所を有する保持盤と、該保持盤の温度を調節する温度調節手段と、前記第1の凹所を排気するための第1の配管と、前記第2の凹所を排気するための第2の配管を備えており、前記第1の配管が、前記第2の配管より低い配管抵抗を有することを特徴とする基板保持装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 P ,  H01L 21/30 502 H