特許
J-GLOBAL ID:200903042449324013

低温焼成基板用ガラス組成物およびそれから得られる基板

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 今村 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-072337
公開番号(公開出願番号):特開平5-238774
出願日: 1992年02月22日
公開日(公表日): 1993年09月17日
要約:
【要約】【目的】 低熱膨張率、高強度、低誘電率等の物性を有する低温焼成基板用のガラス組成物を得る。【構成】 熱処理することにより、主としてムライトとコ-ジェライトの複結晶相が析出するガラス組成物であって、SiO2 、Al2 O3 、B2 O3 、MgO、ZnO、R2 O、結晶化促進剤等からなる。
請求項(抜粋):
熱処理することにより主としてムライトとコ-ジェライトの複結晶相が析出するガラスであって、酸化物の重量%表示で:SiO2 :20〜35%Al2 O3 :35〜45%B2 O3 : 5〜15%MgO : 8〜20%CaO : 0〜 4%BaO : 0〜 4%但しCaO+BaO: 0〜 4%ZnO :0.5〜5%Li2 O : 0〜 2%Na2 O : 0〜 2%K2 O : 0〜 2%但しLi2 O+Na2 O+K2 O:1〜4%(少なくとも2種必須)ZrO2 : 0〜 3%SnO2 : 0〜 3%但しZrO2 +SnO2 :0.1〜4%からなる低温焼成基板用ガラス組成物。
IPC (3件):
C03C 10/08 ,  C03C 3/068 ,  H05K 1/03

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