特許

J-GLOBAL ID：200903042465357380

3次元フォトニック結晶及びその製造方法及び光学素子

発明者： 横山 光 ,  波多野 卓史
出願人/特許権者： ミノルタ株式会社
代理人 (1件)： 佐野 静夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-362136
公開番号（公開出願番号）：特開2002-162653
出願日： 2000年11月29日
公開日（公表日）： 2002年06月07日
要約：

【要約】【課題】 3次元の周期構造を動的に可変できる3次元フォトニック結晶を提供する。【解決手段】 屈折率及びエッチング特性の異なる複数の媒質6、7が周期的に積層して成る基体21上に2次元の周期で凹設された細孔部21aの断面積をエッチングによって拡大し、基板3と電極23との間に印加される電圧により屈折率が変化する電気光学効果を有する液晶等の注入材料22を細孔部21aに注入した。

請求項（抜粋）：

相異なる三つの方向で屈折率が周期的に変化する3次元フォトニック結晶において、屈折率及びエッチング特性の異なる複数の媒質が周期的に積層して成る基体上に、2次元の周期で凹設され且つ媒質毎に孔径の異なる細孔部を形成し、印加電圧により屈折率が変化する電気光学効果を有する材料を前記細孔部に充填したことを特徴とする3次元フォトニック結晶。

IPC (3件)：

G02F 1/29 ,  G02B 6/12 ,  G02F 1/13 505

FI (4件)：

G02F 1/29 ,  G02F 1/13 505 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N

Fターム (21件)：

2H047KA03 ,  2H047KB08 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047RA08 ,  2H047TA44 ,  2H088EA47 ,  2H088FA08 ,  2H088FA30 ,  2H088JA03 ,  2H088KA04 ,  2K002AB07 ,  2K002AB08 ,  2K002BA06 ,  2K002CA14 ,  2K002DA14 ,  2K002DA20 ,  2K002EB02 ,  2K002EB03 ,  2K002EB09 ,  2K002HA08