特許
J-GLOBAL ID:200903042473729741
多孔質シリカゾルとその製法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-196534
公開番号(公開出願番号):特開平7-048117
出願日: 1993年08月06日
公開日(公表日): 1995年02月21日
要約:
【要約】【目的】 光学材料、特にレンズやガラスにおいて優れた効果を持つ反射防止膜を形成するための、低屈折率フィラーである多孔質シリカゾルを生成する。【構成】 平均粒子径が0.3〜100nmの範囲にあり、かつ屈折率が1.2〜1.4である多孔質シリカゾルを、シリコンのアルコキシドをアンモニアで加水分解した後、アンモニアを除去することによって生成する。【効果】 反射防止膜形成用の低屈折率フィラーして用いることができ、非常に優れた反射防止膜形用塗布液を作製することができる。
請求項(抜粋):
平均粒子径が0.3〜100nmの範囲にあり、かつ、屈折率が1.2〜1.4であることを特徴とする多孔質シリカゾル。
IPC (3件):
C01B 33/14
, C01B 33/149
, G02B 1/11
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平4-050112
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特開平4-077309
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特開昭62-052119
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