感光性樹脂及び該感光性樹脂を用いたレジスト組成物、並びに該レジスト組成物を用いた半導体装置・露光用マスクの製造方法及び該方法により製造された半導体装置・露光用マスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-221869
公開番号（公開出願番号）：特開2001-051418
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月23日
要約：

【要約】【課題】アルカリ溶液に対する溶解度が高く、露光光に対する高い透過率と良好なドライエッチング耐性を併せ持ち、現像時にレジストが剥がれず基板密着性の高い感光性樹脂を提供する。【解決手段】側鎖にラクトン部分を有するビニルモノマー部位と、側鎖に脂環式炭化水素基を有するビニルモノマー部位と、スルホニル部位からなる感光性樹脂。

請求項（抜粋）：

側鎖にラクトン部分を有するビニルモノマー部位と、側鎖に脂環式炭化水素基を有するビニルモノマー部位と、スルホニル部位からなる、下記の構造式で表されることを特徴とする感光性樹脂。【化1】ここで、m1,m2,m3は整数。M1は下記の構造式にて表されるビニルモノマー部位であり、側鎖のカルボキシル基の保護基としてラクトン構造を有する。【化2】但し、xは整数で、1乃至6のいずれかが好ましい。Aは水素(H)、メチル基(CH3)、あるいはハロゲン基を表す。nは1乃至4の整数であり、Rは水素あるいは任意のアルキル基,アルコキシル基,アルコキシカルボニル基であり、エステル結合している2位を除く任意の位置に結合できる。また、M2は下記の構造式にて表されるビニルモノマー部位であり、側鎖のカルボキシル基に脂環式炭化水素基を含む構造体が結合している。【化3】但し、yは整数で、1乃至6のいずれかが好ましい。またBは水素(H)、メチル(CH3)、またはハロゲン元素のいずれか1つ。またDは脂環式炭化水素基を含む構造体である。

IPC (5件)：

G03F 7/039 501 , C08G 75/22 , C08L 81/06 , C08L 83/06 , G03F 7/075 511

FI (5件)：

G03F 7/039 501 , C08G 75/22 , C08L 81/06 , C08L 83/06 , G03F 7/075 511

Fターム (42件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AA09 , 2H025AA14 , 2H025AB08 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB04 , 2H025CB19 , 2H025CB34 , 2H025CB41 , 2H025CB42 , 2H025CC03 , 4J002BG031 , 4J002BG071 , 4J002CN031 , 4J002EA056 , 4J002EB026 , 4J002ED026 , 4J002EE036 , 4J002EH036 , 4J002EH156 , 4J002EU026 , 4J002FD070 , 4J002FD310 , 4J002GP03 , 4J030BA09 , 4J030BA47 , 4J030BB23 , 4J030BB24 , 4J030BF01 , 4J030BF03 , 4J030BF07 , 4J030BF14 , 4J030BG02 , 4J030BG10

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