特許

J-GLOBAL ID：200903042482821960

接触転写装置

発明者： 高畑 俊哉 ,  大澤 達朗 ,  平島 安人
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 喜三郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-256061
公開番号（公開出願番号）：特開平7-110630
出願日： 1993年10月13日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】潜像担持体の絶縁耐圧以下の低電圧で転写可能とし被転写体幅や環境によらず高品質で信頼性が高く低コストな接触転写装置を提供する。【構成】転写部材に定電流電源105によりバイアスを印加し潜像担持体101上のトナー106を被転写体107上に転移させる転写装置であり、転写ローラ104を代表とする転写部材の抵抗値の対数値をR、トナー106の樹脂母粒子に対し外添される外添剤量をW(wt%)としたとき、W≧16.0-3.52×R+0.2×R2とする。

請求項（抜粋）：

転写部材に定電流電源によりバイアスを印加し潜像担持体上のトナーを被転写体に転移させる転写装置において、前記転写部材の抵抗値の対数値をR、前記トナーの樹脂母粒子に対し外添される外添剤量をW(wt%)としたとき、W≧16.0-3.52×R+0.2×R2としたことを特徴とする接触転写装置。