液浸露光装置および露光方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (6件)：吉武賢次 , 橘谷英俊 , 佐藤泰和 , 吉元弘 , 川崎康 , 箱崎幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-274032
公開番号（公開出願番号）：特開2008-135723
出願日： 2007年10月22日
公開日（公表日）： 2008年06月12日
要約：

【課題】フロー水中の溶解物に起因する液浸露光不良を未然に防止する。【解決手段】投影光学系3を収納する鏡筒5に加えて基板洗浄ユニット41を設け、基板Sへのマスクパターンの露光に先立って、液浸領域に供給される液体と同一の液体を用いて基板Sを洗浄する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

マスクのパターンを基板に投影する投影光学系と、液体を通過させて前記投影光学系と前記基板との間の液浸領域に供給させる液体供給経路と、前記液浸領域から排出される液体を通過させる液体排出経路と、前記液体排出経路に配設され、前記液体に溶解した不純物を測定する第1の測定装置と、前記第1の測定装置による測定結果を予め設定された閾値と比較し、前記測定結果が前記閾値を超えた場合に露光を中断させる第1の制御部と、洗浄液排出経路を有し、前記マスクパターンの投影に先立って前記基板を洗浄する基板洗浄装置と、前記洗浄液排出経路に配設され、前記洗浄液体に溶解した不純物を測定する第2の測定装置と、前記第2の測定装置による測定結果を予め設定された設定値と比較し、前記測定結果が前記設定値に達するまで基板洗浄装置に基板を洗浄させる第2の制御部と、を備える液浸露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 515D , H01L21/30 565 , G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046BA03 , 5F046CB24 , 5F046DA27 , 5F046JA22

引用特許：

出願人引用 (4件)

露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-422932 出願人：キヤノン株式会社
釣服
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-322851 出願人：ダイワ精工株式会社
国際公開第2006/062188号パンフレット

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