特許
J-GLOBAL ID：200903042494073412
位相シフトマスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-303645
公開番号（公開出願番号）：特開2000-131822
出願日： 1998年10月26日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：
【要約】【課題】 位相シフトマスクに、露光するパターンの変形を補正する機能を備え、照明条件を変更することなく適正なパターンの露光を可能にする。【解決手段】 光を透過する透明基板11と、透明基板11上に形成されたハーフトーン膜12と、ハーフトーン膜12に開口されたホールパターン1(1a,1b)と、ホールパターン1に近接する位置のハーフトーン膜12上に形成された遮光膜13とを備え、遮光膜13はホールパターン1が露光されたときに露光パターンが短縮される方向に沿った位置に配設される。ホールパターン1に沿って設けられた遮光膜13によって、ハーフトーン膜12に設けられたホールパターン1における光強度分布の偏りが補正され、当該パターンにおける均等な光強度分布が得られ、照明条件を変更しなくとも適正なパターンの露光が実現される。
請求項（抜粋）：
光を透過又は反射する基板と、前記基板上に形成されたハーフトーン膜と、前記ハーフトーン膜に開口されたパターンと、前記パターンに近接する位置の前記ハーフトーン膜上に形成された遮光膜とを備え、前記遮光膜は前記パターンに対して、前記パターンが露光されたときに露光されたパターンが短縮される方向に沿った位置に配設されていることを特徴とする位相シフトマスク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
2H095BA06
, 2H095BB02
, 2H095BB03
, 2H095BB10
