特許

J-GLOBAL ID：200903042494505312

薄膜製造における改善

発明者： ハットン,ロス・アンドリュー ,  シルバ,センブクティアラキラージ・ラビ
出願人/特許権者： ユニバーシティ オブ サリー
代理人 (7件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  荒川 伸夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-520003
公開番号（公開出願番号）：特表2008-544946
出願日： 2006年07月07日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

均一に分散したカーボンナノチューブを含む薄膜を製造する方法。この方法は、分子半導体を適応させて可溶性にする工程、分子半導体を適応させて高度の分子秩序及び隣接分子間フロンティア軌道重複の形成を容易にする工程、カーボンナノチューブを適応させて可溶性にする工程、可溶性カーボンナノチューブと可溶性分子半導体を溶媒中で組み合わせて溶液を形成する工程、および、溶液から薄膜を製造する工程を含む。

請求項（抜粋）：

均一に分散したカーボンナノチューブを含む薄膜を製造する方法であって、 分子半導体を適応させて可溶性にする工程と、 該分子半導体を適応させて、高度の分子秩序及び隣接分子間フロンティア軌道重複の形成を容易にする工程と、 該カーボンナノチューブを適応させて可溶性にする工程と、 該可溶性カーボンナノチューブ及び該可溶性分子半導体を溶媒中で組み合わせて溶液を形成する工程と、 該溶液から該薄膜を製造する 工程を含む方法。

IPC (3件)：

C01B 31/02 ,  H01L 51/42 ,  H01L 33/00

FI (3件)：

C01B31/02 101F ,  H01L31/04 D ,  H01L33/00 A

Fターム (29件)：

4G146AA11 ,  4G146AA12 ,  4G146AB07 ,  4G146AC03B ,  4G146AC16B ,  4G146AD17 ,  4G146AD24 ,  4G146AD29 ,  4G146AD30 ,  4G146CB10 ,  4G146CB12 ,  4G146CB16 ,  4G146CB17 ,  4G146CB19 ,  4G146CB22 ,  4G146CB35 ,  4G146CB37 ,  5F041CA12 ,  5F041CA45 ,  5F041CA67 ,  5F041CA88 ,  5F051AA11 ,  5F051AA12 ,  5F051AA20 ,  5F051DA03 ,  5F051FA04 ,  5F051FA13 ,  5F051FA15 ,  5F051GA03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• カーボンナノチューブ複合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-400691   出願人：国立大学法人奈良先端科学技術大学院大学

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Fabrication of carbon nanotubes/copper phthalocyanine composites with improved compatibility