特許

J-GLOBAL ID：200903042513295162

非腐食性フォトレジスト剥離用組成物

発明者： ケンジ・ホンダ
出願人/特許権者： オー・シー・ジー・マイクロエレクトロニツク・マテリアルズ・インコーポレイテツド
代理人 (1件)： 高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-090427
公開番号（公開出願番号）：特開平7-295240
出願日： 1995年04月17日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：

【要約】【構成】 (a) 3.5よりも大きい双極子モーメントを有する有機極性溶媒85〜10重量%、(b) 選ばれたアミン化合物10〜40重量%、(c) ヒドロキシル基を有する選ばれたアミノ酸5〜30重量%、および場合により(d) 水0〜20重量%を含む非腐食性フォトレジスト組成物。【効果】 本発明の剥離剤組成物は、剥離能力を損失することなく基体の腐食を抑制することができる。

請求項（抜粋）：

(a) 3.5より大きい双極子モーメントを有する有機極性溶媒約85〜約10重量%、(b) 式(I):【化1】(式中、nおよびmはそれぞれ独立して1〜5の範囲の整数であり、Xは水素、アルキルまたはアルコキシ基であり、Yは-O-または-NH-のいずれかであり、Zは水素、-OHまたは-NH2である)を有する化合物からなる群より選ばれるアミン化合物約10〜40重量%、(c) 式(II):【化2】〔式中、pは1〜3の範囲の整数、R1およびR2はそれぞれ独立して水素および式(III):【化3】(式中、R5、R6およびR7はそれぞれ独立して水素、-OH、-CH2OH、アルキル、アルコキシ、フェニル、およびモノ-、ジ-またはトリ-ヒドロキシ置換フェニル基から選ばれる)を有する化合物からなる群から選ばれ、そしてR3およびR4はそれぞれ独立して水素および式(IV):【化4】(式中、X′、Y′およびZ′はそれぞれ独立して水素、OH、-CH2OH、-CH2CH2OH、-CH2COOH、アルキル、またはアルコキシ基から選ばれ、そしてこれらのうちの少なくとも一つは-OH、または-CH2OHもしくは-CH2CH2OHである)を有する化合物からなる群より選ばれる〕を有する化合物からなる群より選ばれるアミノ酸約5〜約30重量%、および(d) 水約0〜約20重量%、(すべてのパーセントは剥離剤組成物重量を基準とする):からなることを特徴とする、レジスト剥離剤組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-350660
  
• 還元及び酸化電位を有する求核アミン化合物を含む洗浄剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-193940   出願人：イー.ケー.シー.テクノロジー.インコーポレイテッド