特許

J-GLOBAL ID：200903042517064238

X線回折測定方法及び装置

発明者： 田中 勲 ,  片山 忠二
出願人/特許権者： 株式会社マツクサイエンス
代理人 (1件)： 阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-271358
公開番号（公開出願番号）：特開平5-107204
出願日： 1991年10月18日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：

【要約】【目的】 比較的簡単な構成により、積分型2次元記録体によって結晶の正確な方位情報を得ることを可能にしたX線回折測定方法及びその装置を提供することを目的とする。【構成】 本発明にかかるX線回折測定方法及びその装置は、積分型2次元記録体たる円筒IP板3に試料1の特定の回折パターンを記録した後、この円筒IP板3の別の場所または他の円筒IP板に、前記特定の回折パターンを記録した際における照射X線の入射角を基準にして該X線の入射角を試料保持装置2によって走査するととともにこの走査に同期させつつ前記円筒IP板3を走査装置4によって前記試料1に対して移動走査して補正用の回折斑点を記録し、この補正用の回折斑点の中心位置から前記特定の回折パターンを構成する各回折斑点の位置を補正して結晶の正確な方位情報を得ることを可能にしたものである。

請求項（抜粋）：

単結晶試料に所定の方向からX線を照射したときに該試料によって所定の方向に回折された回折X線を、所定の位置に配置された積分型2次元記録体で受けて回折パターンとして記録し、この回折パターンを解析して前記単結晶試料の結晶構造情報を得るX線回折測定方法において、前記積分型2次元記録体に特定の回折パターンを記録した後、この特定の回折パターンを記録した積分型2次元記録体の別の場所または他の積分型2次元記録体に、前記特定の回折パターンを記録した際における照射X線の入射角を基準にして該照射X線の入射角を走査するととともにこの走査に同期させつつ前記積分型2次元記録体を前記試料に対して移動または回転走査して前記特定の回折パターンを構成する各回折斑点に対応する逆格子点による補正用の回折斑点を記録し、この補正用の回折斑点の中心位置から前記特定の回折パターンを構成する各回折斑点の位置を補正して結晶の正確な方位情報を求めることを特徴としたX線回折測定方法。