特許
J-GLOBAL ID:200903042521974915
パターン形成方法と位相シフトマスクの製造方法および半導体装置の製造方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-150526
公開番号(公開出願番号):特開2002-049158
出願日: 1991年05月30日
公開日(公表日): 2002年02月15日
要約:
【要約】【課題】 光に対する感度が十分あり、遠紫外光等の短波長光を用いたリソグラフィには適した光または放射線感応性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 主成分たるポリマーあるいはオリゴマーは、化学組成の骨格がシロキサン構造(-Si-O-)している。光または放射線により生じたアニオン種またはカチオン種により縮重合するような末端基あるいは側鎖基を持つポリマーである。このため本発明の光または放射線感応性組成物は光または放射線を照射した後、溶剤に対して不溶化する。この時、現像液としては有機溶媒を用いることができるだけでなく、末端基に極性を持たせることによりアルカリ水溶液によっても現像できる。本発明において光または放射線とは可視光、紫外光、遠紫外光、真空紫外光、X線、γ線、電子線、イオン線等を含むものである。
請求項(抜粋):
基板上に、平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上にレジストを形成する工程と、前記レジストの所定領域を露光する工程と、前記レジストをアルカリ現像液で現像する工程とを備えたパターン形成方法であって、前記レジストは重量平均分子量が2000から10万の範囲のシロキサン結合を骨格とする第1のベースポリマーと前記第1のベースポリマー100重量%に対して0乃至10重量%の濃度の感光剤とを備えた放射線感応性組成物、または、重量平均分子量が500から50万の範囲のシロキサン結合を骨格とする第2のベースポリマーと前記第2のベースポリマー100重量%に対して0.2乃至10重量%の濃度の感光剤とを備えた光感応性組成物であって、前記第1または第2のポリマーは末端基と側鎖基とを有するポリシルセスキオキサンを主成分とし、かつ前記末端基はアルコキシル基と水酸基とを1対1の割合で備えていることを特徴とするパターン形成方法。
IPC (11件):
G03F 7/075 511
, C08K 5/00
, C08L 83/06
, G03F 1/08
, G03F 7/004 503
, G03F 7/028
, G03F 7/11 502
, H01L 21/027
, H01L 21/3213
, H01L 21/768
, G03F 7/40
FI (14件):
G03F 7/075 511
, C08K 5/00
, C08L 83/06
, G03F 1/08 A
, G03F 1/08 J
, G03F 7/004 503 Z
, G03F 7/028
, G03F 7/11 502
, G03F 7/40
, H01L 21/30 502 R
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 573
, H01L 21/88 D
, H01L 21/90 S
Fターム (70件):
2H025AA01
, 2H025AB08
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025BD55
, 2H025BE00
, 2H025CA01
, 2H025CA14
, 2H025CA28
, 2H025DA29
, 2H025DA40
, 2H025FA03
, 2H025FA17
, 2H025FA29
, 2H025FA41
, 2H095BB03
, 2H095BB09
, 2H095BB10
, 2H095BB11
, 2H096AA24
, 2H096AA25
, 2H096BA06
, 2H096BA20
, 2H096EA02
, 2H096EA03
, 2H096EA04
, 2H096EA06
, 2H096EA07
, 2H096GA08
, 2H096HA01
, 2H096HA23
, 2H096JA04
, 2H096KA05
, 4J002CP061
, 4J002EB026
, 4J002EB106
, 4J002EE026
, 4J002EQ036
, 4J002EU186
, 4J002EV246
, 4J002EV296
, 4J002FD146
, 4J002FD206
, 5F033QQ01
, 5F033QQ06
, 5F033QQ09
, 5F033QQ11
, 5F033QQ19
, 5F033QQ29
, 5F033QQ74
, 5F033RR06
, 5F033RR22
, 5F033RR25
, 5F033RR27
, 5F033SS22
, 5F033TT04
, 5F033WW00
, 5F033WW04
, 5F033XX01
, 5F033XX02
, 5F033XX03
, 5F033XX12
, 5F033XX33
, 5F033XX34
, 5F046AA20
, 5F046NA01
, 5F046NA08
前のページに戻る