特許
J-GLOBAL ID：200903042544682601
パターンのエッジ検出方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
黒田 博道 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-310944
公開番号（公開出願番号）：特開平7-159122
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年06月23日
要約：
【要約】【目的】 パターン間隔が比較的狭く、予め設定された基準レベルに達しない光電信号波形が含まれる場合でも、パターン間隔が比較的広い場合と同様に安定した測定値を得ることができる。【構成】 複数のパターンL1,L2,L3・・・を順次光電的に走査して、反射光強度に応じた光電信号波形を得る。この光電信号波形の最初の立ち下がり波形SL1を第1テンプレートとして記憶するとともに、最後の立ち上がり波形SLnを第2テンプレートとして記憶し、また両者の間に位置する波形SL2,SL3,SL4・・・のピークM2,M3,M4・・・を求める。このピークM2,M3,M4・・・より第1テンプレートと第2テンプレートとに基づいて波形SL2,SL3,SL4・・・を延長した後、延長した波形と予め設定された基準レベルLとを比較して、前記複数のパターンL1,L2,L3・・・のエッジ位置a,b,c・・・を検出する。
請求項（抜粋）：
基板上に隣接して形成された複数のパターンを順次光電的に走査して、反射光強度に応じた光電信号波形を得る第1工程と、前記光電信号波形の最初の立ち下り波形を第1テンプレートとして記憶するとともに、最後の立ち上がり波形を第2テンプレートとして記憶する第2工程と、前記光電信号波形の最初の立ち下り波形と最後の立ち上がり波形との間に位置する波形のピークを求める第3工程と、前記ピークより前記第1テンプレートと前記第2テンプレートとに基づいて波形を延長する第4工程と、前記延長した波形と予め設定された基準レベルとを比較して、前記複数のパターンのエッジ位置を検出する第5工程と、を含むことを特徴とするパターンのエッジ検出方法。
IPC (3件)：
G01B 11/00
, G06T 7/00
, H01L 21/66
