特許
J-GLOBAL ID:200903042566596768
プラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (2件):
池浦 敏明 (外1名)
, 池浦 敏明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-230975
公開番号(公開出願番号):特開平7-060078
出願日: 1993年08月24日
公開日(公表日): 1995年03月07日
要約:
【要約】【目的】 二酸化炭素分離係数にすぐれるとともに、二酸化炭素キャリヤー液の保持性にすぐれ、水と接触してもその膜性能が容易に低下することのない二酸化炭素分離膜の製造方法を提供する。【構成】 多孔質高分子膜をプラズマ処理した後、親水性ビニルモノマー蒸気をそのプラズマ処理された多孔質高分子膜に接触させてグラフト重合させ、次いでこのようにして得られた親水性重合体表面層を有する多孔質高分子膜に二酸化炭素キャリヤー液を含浸保持させることを特徴とするプラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法。
請求項(抜粋):
多孔質高分子膜をプラズマ処理した後、親水性ビニルモノマー蒸気をそのプラズマ処理された多孔質高分子膜に接触させてグラフト重合させ、次いでこのようにして得られた親水性重合体表面層を有する多孔質高分子膜に二酸化炭素キャリヤー液を含浸保持させることを特徴とするプラズマ処理炭酸ガス分離膜の製法。
IPC (3件):
B01D 67/00 500
, B01D 71/40
, C01B 31/20
引用特許:
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