特許

J-GLOBAL ID：200903042568984307

ホールパタン形成用マスク

発明者： 大▲高▼ 明浩 ,  河合 義夫 ,  松田 維人
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-082756
公開番号（公開出願番号）：特開平7-271013
出願日： 1994年03月30日
公開日（公表日）： 1995年10月20日
要約：

【要約】【目的】 吸収型位相シフトマスクの透過率を増大させることなく、すなわち光学像の2次ピークの強度を増大させることなく、焦点余裕をもったホールパタンの形成を行えるようにする。【構成】 マスクパタンの振幅透過率分布を、転写しようとするホールパタンの中心からの距離に対して、0次のベッセル関数(図1(a)参照)とする。具体的には、この連続的な振幅透過率分布を階段状の関数で近似し(図1(b))、、吸収型位相シフトマスクで実現する。例えば、転写しようとするホールパタンHPM の中心から半径1.1λ/NAおよび2.1λ/NAの円の円周線上に、円環状の帯(透過部)HPS1およびHPS2を補助パタンとして設ける。

請求項（抜粋）：

そのマスクパタンの振幅透過率分布が、転写しようとするホールパタンの中心からの距離に対して、0次のベッセル関数とされていることを特徴とするホールパタン形成用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/28 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528