特許
J-GLOBAL ID：200903042601583577
微細構造体の形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-036508
公開番号（公開出願番号）：特開平6-252032
出願日： 1993年02月25日
公開日（公表日）： 1994年09月09日
要約：
【要約】【目的】 微細構造体の形成方法に関し、所望の形状を高精度に、かつ再現性よく形成された面と、該面の側面として、該面に斜め方向に傾斜した側面を有する微細構造体の形成方法を提供する。【構成】 基板7上にレジスト層8を形成する工程と、レジスト層8に対し、シンクロトロン放射光を斜め方向から照射することにより、レジスト層8を露光する露光工程と、露光工程により露光したレジスト層8を現像してレジストパターンを形成する工程と、レジストパターンに従って、基板7上に金属構造体を堆積させる工程とを備える。
請求項（抜粋）：
基板上にレジスト層を形成する工程と、前記レジスト層に対し、光を斜め方向から照射することにより、前記レジスト層を露光する露光工程と、前記露光工程により露光したレジスト層を現像してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンに従って、前記基板上に金属構造体を堆積させる工程とを備える、微細構造体の形成方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, H01L 21/288
