特許
J-GLOBAL ID:200903042602483690

レーザ光照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 本田 崇
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-065246
公開番号(公開出願番号):特開2000-258334
出願日: 1999年03月11日
公開日(公表日): 2000年09月22日
要約:
【要約】【課題】 ビーム幅のばらつきのないレーザ光を計測領域に照射すること。【解決手段】 半導体レーザ1A、光学素子1E、スリット部材1Fは同一光軸上に配置されて保持手段1Hに保持されている。また、半導体レーザ1Aと光学素子1Eとの間の距離を調整し、ビームウエストの位置を調整する焦点距離調整機構部1Gを備えている。ここで、粒子の流れ位置による散乱光強度のばらつきをなくすために、粒子に照射するビーム幅をサンプル流の幅に比較して十分大きくしている。半導体レーザ1Aから射出された光は光学素子1Eにより計測領域で集光される。サンプル流に直交する方向のビーム幅はスリット部材1Fにより決定される。
請求項(抜粋):
粒子が通過する計測領域にレーザ光を照射することにより発生する散乱光および蛍光を検出することにより前記粒子の分類を行うようにした粒子分類装置のレーザ光照射装置において、半導体レーザ光源と、該半導体レーザ光源から射出された光を前記計測領域に集める光学素子と、光照射範囲を制限するスリット部材を備え、前記半導体レーザ光源と、前記光学素子と、前記スリット部材とが同一光軸上に配置されるようにこれらを一体に保持する保持手段とを具備することを特徴とするレーザ光照射装置。
引用特許:
審査官引用 (5件)
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