特許
J-GLOBAL ID：200903042603879180
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-171322
公開番号（公開出願番号）：特開平11-015135
出願日： 1997年06月27日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：
【要約】【課題】 高精度のパターニングが可能で、かつ、耐酸性及び信頼性の高い位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクを提供する。【解決手段】 透明基板10と、この透明基板上に積層されたハーフトーン材料膜11と、このハーフトーン材料膜上に積層された金属膜12を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜がエッチングレートの異なる複数の金属膜によって形成されているとともに、透明基板側に位置する金属膜のエッチングレートが前記表面側に位置する金属膜のエッチングレートよりも段階的にあるいは連続的に速く設定されていることを特徴としている。
請求項（抜粋）：
透明基板と、この透明基板上に形成されたハーフトーン材料膜と、このハーフトーン材料膜上に形成された金属膜を有するハーフトーン位相シフトマスクブランクにおいて、前記金属膜を表面側から透明基板側に向かって段階的に及び/又は連続的にエッチングレートの異なる材料で構成することによって、エッチングレートが表面側から透明基板側に向かうにしたがって段階的に及び/又は連続的に速くなるように設定したことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
