特許
J-GLOBAL ID：200903042614939850

高温のガスと接触するための装置

発明者：
マノジ・アグラワル

マノジ・アグラワル について

, 
ダナ・バウアー

ダナ・バウアー について

, 
ロバート・ピッペンガー

ロバート・ピッペンガー について


出願人/特許権者：
ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション

ヘムロック・セミコンダクター・コーポレーション について


代理人 (5件)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-059641
公開番号（公開出願番号）：特開2004-262753
出願日： 2004年03月03日
公開日（公表日）： 2004年09月24日
要約：
【課題】高温ガス、例えば水素及びテトラクロロシランとの接触に適した装置を提供する。【解決手段】 反応器100は、テトラクロロシランの水素化に用いることができる。反応器100は、炭化ケイ素系の構成材料から調製される少なくとも1つの部品を有する。反応器100は、加圧可能シェル101と、加圧可能シェル101に囲まれた断熱材102と、断熱材102に囲まれた加熱要素106と、加熱要素106に囲まれた反応室107とを含む。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
高温ガスとの接触に適した装置であって、 高温ガスと接触する少なくとも1つの部品が炭化ケイ素系の構成材料からなる高温ガスとの接触に適した装置。
IPC (4件)：
C01B33/03 ,  B01J3/00 ,  B01J3/04 ,  B01J19/02
FI (4件)：
C01B33/03 ,  B01J3/00 A ,  B01J3/04 A ,  B01J19/02
Fターム (19件)：
4G072AA01 ,  4G072BB12 ,  4G072GG04 ,  4G072GG05 ,  4G072HH08 ,  4G072JJ01 ,  4G072MM01 ,  4G072RR04 ,  4G072RR11 ,  4G072UU01 ,  4G075AA03 ,  4G075AA45 ,  4G075AA53 ,  4G075BA06 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02 ,  4G075EB27 ,  4G075FB04 ,  4G075FC06
引用特許：
審査官引用 (6件)
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