特許

J-GLOBAL ID：200903042641009156

ポジ型感放射線性レジスト用現像液

発明者： 谷島 幹男 ,  小澤 角栄 ,  三平 能之 ,  金澤 政男 ,  福川 敏巳
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 西川 繁明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-290710
公開番号（公開出願番号）：特開平5-100439
出願日： 1991年10月08日
公開日（公表日）： 1993年04月23日
要約：

【要約】【目的】 現像後のレジストパターンの粗密によるレジストパターン寸法の変化を少なくすることができるポジ型感放射線性レジスト用の有機アルカリ現像液を提供すること。【構成】 アルカリ可溶性フェノール樹脂とキノンジアジドスルホン酸エステルを含むポジ型感放射線性レジスト用の現像液であって、該現像液が有機第四級アンモニウムハイドロオキサイドと硼酸を含有する有機アルカリ水溶液であることを特徴とするポジ型感放射線性レジスト用現像液。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂とキノンジアジドスルホン酸エステルを含むポジ型感放射線性レジスト用の現像液であって、該現像液が有機第四級アンモニウムハイドロオキサイドと硼酸を含有する有機アルカリ水溶液であることを特徴とするポジ型感放射線性レジスト用現像液。

IPC (2件)：

G03F 7/32 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-062850
  
• 特開昭62-131263
  
• 感光性樹脂現像液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-276687   出願人：チツソ株式会社