特許
J-GLOBAL ID：200903042641946397
透明導電膜とその形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
室田 力雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-292373
公開番号（公開出願番号）：特開平5-105476
出願日： 1991年10月11日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：
【要約】【目的】 膜抵抗特性および膜の耐湿特性が良く、また膜厚のムラや表面ムラや組織ムラのない視覚性状の良い透明導電膜の提供及びその形成方法の提供を目的とする。【構成】 焼成による透明導電膜であって、焼成後の膜厚が500 オングストロームから900 オングストロームの範囲である透明導電膜。および焼成によって透明導電性金属酸化物となる金属化合物と、有機溶媒と、有機物添加剤を少なくとも含む液状体若しくはペースト状体を基板上に積層し、乾燥後、焼成して透明導電膜とする方法であって、焼成後の膜厚が500 オングストロームから900 オングストロームの範囲になるようにする透明導電膜形成方法。
請求項（抜粋）：
焼成による透明導電膜であって、焼成後の膜厚が500 オングストロームから900 オングストロームの範囲であることを特徴とする透明導電膜。
IPC (4件)：
C03C 4/14
, C03C 8/14
, C03C 17/27
, C04B 41/87
