特許
J-GLOBAL ID：200903042642345974
硬質低摩擦層を表面に有する材料の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-177487
公開番号（公開出願番号）：特開平5-339731
出願日： 1992年06月10日
公開日（公表日）： 1993年12月21日
要約：
【要約】【目的】表面に潤滑性に優れた硬質非晶質炭素-水素-珪素薄膜層を有する材料の製造方法を提供する。【構成】被処理材の表面を、プラズマCVDにより、珪素と水素および/または珪素、水素と炭素を主要構成元素とする珪素化合物ガスと炭素化合物ガスを主体とした薄膜被覆用ガス雰囲気中、100〜400°Cで放電処理することにより、被処理材表面に潤滑性を有する硬質非晶質炭素-水素-珪素薄膜表面層を被覆する。
請求項（抜粋）：
被処理材の表面を、プラズマCVDにより、珪素と水素および/または珪素、水素と炭素を主要構成元素とする珪素化合物ガスと炭素化合物ガスを主体とした薄膜被覆用ガス雰囲気中、100〜400°Cで放電処理することにより、被処理材表面に潤滑性を有する硬質非晶質炭素-水素-珪素薄膜表面層を被覆することを特徴とする硬質低摩擦層を表面に有する材料の製造方法。
IPC (3件)：
C23C 16/26
, C23C 16/42
, C23C 16/50
