特許

J-GLOBAL ID：200903042645956710

ホスフィン化合物およびそれを配位子とする遷移金属錯体

発明者： 岩倉 和憲 ,  南井 正好
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-263506
公開番号（公開出願番号）：特開平7-118282
出願日： 1993年10月21日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】種々の遷移金属に配位することにより不斉合成反応における有用な触媒を形成する新規なホスフィン化合物を提供する。【構成】一般式1(RはC5〜7のシクロアルキル基;低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換されてもよいフェニル基;または低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換されてもよいフェニルアルキル基を示す。)のホスフィン化合物およびそれを配位子とする遷移金属錯体。

請求項（抜粋）：

一般式(1)(式中、Rは、炭素数5〜7のシクロアルキル基;低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニル基;または低級アルキル基、ハロ低級アルキル基、低級アルコキシ基もしくはハロゲン原子で置換されていてもよいフェニルアルキル基を示す。)で示されるホスフィン化合物。

IPC (5件)：

C07F 9/50 ,  B01J 31/24 ,  C07F 9/48 ,  C07F 15/00 ,  C07F 15/04