特許

J-GLOBAL ID：200903042647381359

位相シフトマスク及びその製造方法

発明者： ▲吉▼田 彰
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 小池 隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-250575
公開番号（公開出願番号）：特開2000-081696
出願日： 1998年09月04日
公開日（公表日）： 2000年03月21日
要約：

【要約】【課題】 すべての開口部からの透過光の光強度のばらつきを抑制し、転写パターンのサイズの均一性を向上させる位相シフトマスク及びその製造方法を提供する。【解決手段】 透明基板(1)内に位相シフト領域として凹部(11)が形成されたフォトマスクにおいて、凹部(11)の側壁を遮光膜(4a)で覆う。

請求項（抜粋）：

透明基板内に位相シフト領域として凹部が形成されたフォトマスクにおいて、凹部の側壁を遮光膜で覆うことを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Fターム (7件)：

2H095BB03 ,  2H095BB16 ,  2H095BC08 ,  2H095BC28 ,  5F046AA25 ,  5F046BA04 ,  5F046BA08