特許

J-GLOBAL ID：200903042647454321

内蔵チャンネルを有する多層セラミック静電チャック

発明者： シャモウイル シャモウイリアン ,  ユー ワン ,  アナンダ エイチ. クマール
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-294197
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118915
出願日： 1999年10月15日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
要約：

【要約】【課題】 ガス供給チャンネル内でのプラズマのイグニッションを防止する裏面ガス供給構造体を有し簡易に製作できるセラミック静電チャックと、その製作方法【解決手段】 第1の層は、支持面と、底面と、この両者間の複数のポートとを有している。第2のセラミック層は、第1のセラミック層の下に配置される。第2の層に形成されたプレナムが、熱移動ガスを支持面に供給する。第1のセラミック層は、プレナムと支持面の間を連通させる多数の小径のポートを形成できるよう、十分に薄く作られる。また、プレナムを薄くすることで、小径のポートとプレナムによりプレナム内のプラズマのイグニッションが防止される。

請求項（抜粋）：

処理チャンバ内で基板を支持するための装置であって、支持面、底面、及び複数のポートを有する第1の層と、前記第1の層の下に配置され、自身に形成されたプレナムを有する第2の層とを有する装置。

IPC (2件)：

H01L 21/68 ,  H02N 13/00

FI (2件)：

H01L 21/68 R ,  H02N 13/00 D

Fターム (6件)：

5F031CA02 ,  5F031HA02 ,  5F031HA16 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031PA21