特許

J-GLOBAL ID：200903042651343992

ネガ型フオトレジスト組成物

発明者： 植田 裕治 ,  楠本 武宏 ,  竹山 尚幹 ,  植木 裕美
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 諸石 光▲ひろ▼ (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-066215
公開番号（公開出願番号）：特開平5-005991
出願日： 1991年03月29日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：

【要約】【目的】 高解像度、高感度、高耐熱性のパターン形成材料であるネガ型フォトレジストの組成物を提供する。【構成】 アルデヒド類と下記化合物等を縮合させてなるアルカリ可溶性樹脂、メラミン系またはベンゾグアナミン系架橋剤および酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。【化1】

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表される化合物とアルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性樹脂、架橋剤および酸発生剤を含有するネガ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 〜R9 はそれぞれ独立にアルキル基、水素原子、ハロゲン原子、又は-OH基を表わし、R1 〜R9 のうち少なくとも1つは-OH基であり、該-OH基に対してo位およびp位のうち少なくとも2つは水素原子である。)

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027