特許
J-GLOBAL ID：200903042665024423
薄膜磁気ヘッド及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山本 恵一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-213449
公開番号（公開出願番号）：特開2000-030227
出願日： 1998年07月14日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：
【要約】【課題】 トラック幅方向に対して傾斜して磁気記録された情報を、より大きな出力で再生することができる薄膜磁気ヘッド及びその製造方法を提供する。【解決手段】 基板上に形成された第1及び第2のシールド層と、第1及び第2のシールド層間に積層されたMR層とを有する再生ヘッド部を備えた薄膜磁気ヘッドであって、MR層が基板表面に対して所定角度で傾斜して形成された磁気検出領域を備えている。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された第1及び第2のシールド層と、該第1及び第2のシールド層間に積層された磁気抵抗効果層とを有する再生ヘッド部を備えた薄膜磁気ヘッドであって、前記磁気抵抗効果層が基板表面に対して所定角度で傾斜して形成された磁気検出領域を備えていることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Fターム (5件)：
5D034BA02
, 5D034BB02
, 5D034BB08
, 5D034CA04
, 5D034DA07
