特許
J-GLOBAL ID：200903042671362594
イオン注入装置及びイオン注入方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-127193
公開番号（公開出願番号）：特開平5-325873
出願日： 1992年05月20日
公開日（公表日）： 1993年12月10日
要約：
【要約】【目的】 イオンをターゲットに注入する場合のエネルギー、メタル、及びクロスコンタミネーションを低減させるイオン注入装置の構造の改良及びイオン注入方法の改良に関し、ターゲットへのイオンの注入に際してエネルギー、メタル、及びクロスコンタミネーションを防止することを目的とする。【構成】 イオンソース1からイオンを引き出して質量分析器2を通し、スリット3を通過させて速度制御器4により速度を制御し、ターボポンプ6で排気されているチャンバ5aを通過させ、処理室7に載置されている半導体ウエーハ8にイオンを注入するイオン注入装置において、チャンバ5aと一体構成のチャンバ5bと、螺旋状の形状を有し、静止状態で前記イオンのビームライン1aを完全に遮蔽するブレード10a を設けたローター10を備えた軸9と、チャンバ5b内で軸9を支持する軸受け11と、制御装置13により回転数を制御され、軸9を回転させるモーター12とを具備するように構成する。
請求項（抜粋）：
イオンソース(1)からイオンを引き出して質量分析器(2)を通した後、スリット(3) を通過させて速度制御器(4) により速度を制御し、排気装置(6) により排気されているチャンバ(5a)を通過させ、処理室(7) に載置されているターゲット(8) に前記イオンを注入するイオン注入装置において、前記チャンバ(5a)と一体に形成されているチャンバ(5b)と、螺旋状の形状を有し、静止状態で前記イオンのビームライン(1a)を完全に遮蔽するブレード(10a) を設けたローター(10)を備えた軸(9) と、前記チャンバ(5b)内において前記軸(9) を支持する軸受け(11)と、制御装置(13)により回転数を制御され、前記軸(9) を回転させるモーター(12)とを具備することを特徴とするイオン注入装置。
IPC (3件)：
H01J 37/317
, H01J 37/05
, H01L 21/265
