特許
J-GLOBAL ID：200903042684409581
プラズマエッチング方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-228225
公開番号（公開出願番号）：特開平11-251302
出願日： 1986年04月11日
公開日（公表日）： 1999年09月17日
要約：
【要約】【課題】 高い空間周波数の非均一性を減少させるよう改良した低周波エッチング方法を提供すること。【解決手段】 ウェーハのエッチング用の主エネルギ源を構成する低周波信号源の所定の出力と、低周波信号源よりも低い周波数の高周波信号源の所定の出力とを結合して、一対の電極間にプラズマエッチングのために供給し、高周波信号の周波数に同調された結合回路の周波数トラップを用いて、高周波信号源からの高周波信号が、低周波信号源に帰還されることを阻止し、結合回路の容量性手段により、低周波信号が周波数トラップを通過して高周波信号源に到達することを阻止して、エッチングの均一性を改善する。
請求項（抜粋）：
プレーナー反応器を用いてプラズマガスを発生し、一対の電極の電極の一方に、エッチングすべきウェーハを装着するプラズマエッチング方法において、電源を一対の電極間に接続し、ウェーハのエッチング用の主エネルギ源を構成する低周波信号源の所定の出力と、前記低周波信号源よりも実質的に低い周波数の高周波信号源の所定の出力とを結合回路で結合するステップと;結合された前記低周波信号と高周波信号を前記結合回路から前記一対の電極間にプラズマエッチングのために供給するステップと;前記結合回路の手段により、前記高周波信号源と前記低周波信号源とを互いに絶縁し、前記高周波信号源からの高周波信号が、前記低周波信号源に帰還されることを阻止するために前記高周波信号の周波数に同調された前記結合回路の周波数トラップを用いてトラップするステップと;前記結合回路の容量性手段により、前記低周波信号が前記周波数トラップを通過して前記高周波信号源に到達することを阻止して、エッチングの均一性を改善するステップとを有していることを特徴とするプラズマエッチング方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 C
, C23F 4/00 A
