硬度/シリカ系スケールの除去剤

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：福島三雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-078329
公開番号（公開出願番号）：特開2001-314893
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】ボイラを運転しながらスケールを除去することができ、かつ安全性が高く、ボイラを腐食させず、適度なスケール除去速度を有するスケール除去剤を提供する。【解決手段】 EDTAやNTA等のキレート剤と、ポリマレイン酸やビス(ポリ-2-カルボキシエチル)ホスフィン酸等の分散剤とを含有するスケール除去剤である。

請求項（抜粋）：

エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム(EDTA)、ポリアルキレンポリアミン、ビピリジン、グリシン、アセチルアセトン、ニトリロ三酢酸(NTA)、アミノトリ(メチルホスホン酸)、アミノトリ(メチルホスホン酸)五ナトリウム塩、又は1-ヒドロキシ-1,1-ジホスホン酸であるキレート剤と、ポリマレイン酸、2-ホスホノブタン-1,2,4-トリカルボン酸(PBTC)、ビス(ポリ-2-カルボキシエチル)ホスフィン酸、1-ヒドロキシエチリデン-1,1-ジホスホン酸、アクリル酸アクリルアミド共重合物、又はポリアクリル酸ナトリウムである分散剤とを含有する硬度/シリカ系スケールの除去剤。

IPC (10件)：

C02F 5/10 610 , C02F 5/10 620 , C02F 5/10 , C02F 5/00 610 , C02F 5/00 620 , C02F 5/00 , C02F 5/12 , C02F 5/14 , C23G 5/02 , F22B 37/52

FI (12件)：

C02F 5/10 610 Z , C02F 5/10 620 A , C02F 5/10 620 C , C02F 5/10 620 E , C02F 5/00 610 H , C02F 5/00 620 B , C02F 5/00 620 C , C02F 5/12 , C02F 5/14 B , C02F 5/14 C , C23G 5/02 , F22B 37/52 A

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