特許
J-GLOBAL ID：200903042697577696
支持板を有する装置並びに不動態ゲルを塗布するための方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-031180
公開番号（公開出願番号）：特開平7-263847
出願日： 1995年02月20日
公開日（公表日）： 1995年10月13日
要約：
【要約】【目的】 構成素子を簡単に、安価にしかも迅速に不活性化することにある。【構成】 構成素子を不活性化するための装置及び方法に関し、この場合、チキソトロープゲルがリング形状で構成素子の周りに配置されていて、チキソトロープゲルによって取り囲まれた内側スペースが、不動態ゲルにより構成素子を完全に覆うまで、不動態ゲルによって充填されている。次いで、ゲルが硬化させられる。
請求項（抜粋）：
構成素子(2)が配置される支持板(1)を有する装置であって、構成素子(2)が防護層としての不動態ゲル(6)によって覆われていて、この不動態ゲル(6)が側方で流れ遮断部材によって制限されている形式のものにおいて、流れ遮断部材がチキソトロープゲル(5)を有していることを特徴とする、支持板を有する装置。
IPC (2件)：
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