特許

J-GLOBAL ID：200903042699280143

光磁気デイスクの製造方法

発明者： 岡田 昭彦
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-214626
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036137
出願日： 1991年07月31日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 光磁気ディスクの反射膜に発生する腐食を抑制する。【構成】 Al反射膜4を有する構造からなる光磁気ディスクにおいて、反射膜成膜後に酸素を混入した乾燥ガスを真空装置に導入することでリークを行うだけで簡単に保護膜を形成することが可能になる。【効果】 Al反射膜が空気中の水分と反応して水酸化物を形成し劣化するのを防止できる。

請求項（抜粋）：

ガラスまたはプラスチック等からなる透明基板上に、保護膜、記録膜、反射膜を有し、さらに上記反射膜がAlを主成分とする金属薄膜からなる光磁気ディスクの製造方法であって、Al反射膜成膜後に真空装置内部に酸素を含んだ乾燥ガスを導入することにより、Al反射膜上部を不動体保護膜で皮膜することを特徴とする光磁気ディスクの製造方法。