特許
J-GLOBAL ID：200903042718679699
電子線露光におけるマーク位置検出方法およびその装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾身 祐助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-111883
公開番号（公開出願番号）：特開平7-302741
出願日： 1994年04月28日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：
【要約】【目的】 マーク位置の検出を1回の電子線の走査で済むようにする。雑音、試料上の荒れ等の影響を排除して正確な位置検出を行いうるようにする。【構成】 試料上のマーク17上を電子線で走査して、その反射電子を検出して反射電子信号Y(I)を得る〔(b)図〕。反射電子信号にはマーク近傍の荒れ18に対応する雑音成分も含まれている。反射電子信号に対して、位置合わせマークから得られる信号成分の幅Jを周期として自己相関演算を行い自己相関演算出力Z(I)を得る〔(c)図〕。この演算により、荒れ18等による雑音成分は十分に減衰せしめられる。スライスレベルを横切る点でトリガー信号を得〔(d)図〕、その中間点をマークの中心点として求める。
請求項（抜粋）：
試料上に配置された位置合わせマークを基準として試料上に電子線露光によりパターンを描画する際の位置合わせマーク検出方法であって、位置合わせマーク上を電子線を走査することによって得られた反射電子信号に対して、位置合わせマークから得られる信号成分の幅の概略値を周期として自己相関演算を行い、得られた演算結果に基づいてマーク位置を決定することを特徴とする電子線露光におけるマーク位置検出方法。
引用特許：
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