特許

J-GLOBAL ID：200903042719792766

ガス製造装置

発明者： 岩佐 信弘
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-173927
公開番号（公開出願番号）：特開平7-033401
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年02月03日
要約：

【要約】【目的】 窒素ガス濃度が低く水素ガス濃度が高い高カロリーなガスを生成できるガス製造装置を提供する。【構成】 燃焼用空気を供給する空気供給手段7と、供給される炭化水素原料の一部を空気供給手段7から供給される燃焼用空気により燃焼させるとともに、その燃焼熱を用いて、炭化水素原料を熱分解させる又は水蒸気と反応させるガス生成部2とが設けられたガス製造装置において、空気供給手段7から供給される燃焼用空気中の酸素ガス濃度を高くする酸素富化手段8が設けられている。

請求項（抜粋）：

燃焼用空気を供給する空気供給手段(7)と、供給される炭化水素原料の一部を前記空気供給手段(7)から供給される燃焼用空気により燃焼させるとともに、その燃焼熱を用いて、炭化水素原料を熱分解させる又は水蒸気と反応させるガス生成部(2)とが設けられたガス製造装置であって、前記空気供給手段(7)から供給される燃焼用空気中の酸素ガス濃度を高くする酸素富化手段(8)が設けられているガス製造装置。

IPC (4件)：

C01B 3/26 ,  B01J 7/00 ,  F23K 5/00 303 ,  F23D 14/32

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭58-088101
  
• 特開昭58-088101